機械拋光
　　機械拋光是靠切削、材料表面塑性變形去掉被拋光后的凸部而得到平滑面的拋光方法，一般使用油石條、羊毛輪、砂紙等，以手工操作為主，特殊零件如回轉體表面，可使用轉臺等輔助工具，表面質量 要求高的可采用超精研拋的方法。超精研拋是采用特制的磨具，在含有磨料的研拋液中，緊壓在工件被加工表面上，作高速旋轉運動。利用該技術可以達到 Ra0.008 μ m 的表面粗糙度，是各種拋光方法中最高的。光學鏡片模具常采用這種方法。
化學拋光
　　化學拋光是讓材料在化學介質中表面微觀凸出的部分較凹部分優先溶解，從而得到平滑面。這種方法的主要優點是不需復雜設備，可以拋光形狀復雜的工件，可以同時拋光很多工件，效率高。化學拋光的核心問題是拋光液的配制。化學拋光得到的表面粗糙度一般為數 10 μ m 。
電解拋光
　　電解拋光基本原理與化學拋光相同，即靠選擇性的溶解材料表面微小凸出部分，使表面光滑。與化學拋光相比，可以消除陰極反應的影響，效果較好。電化學拋光過程分為兩步：
（ 1 ）宏觀整平 溶解產物向電解液中擴散，材料表面幾何粗糙下降， Ra ＞ 1 μ m 。
（ 2 ）微光平整 陽極極化，表面光亮度提高， Ra ＜ 1 μ m 。